Bất phương trình \({\log _{\dfrac{1}{2}}}\left( {2x - 1} \right) \ge {\log _{\dfrac{1}{2}}}\left( {5 - x} \right)\) có tập nghiệm là
A.\(\left( {\dfrac{1}{2};2} \right]\).                                                     
B.\(\left[ {2; + \infty } \right)\).    
C. \(\left[ {2;5} \right)\).                 
D. \(\left( { - \infty ;2} \right]\).

Dãy axit nào sau đây được sắp xếp đúng theo thứ tự tính axit giảm dần?
A.HCl, HBr, HI, HF.   
B. HI, HBr, HCl, HF.     
C.HBr, HI, HF, HCl.  
D. HF, HCl, HBr, HI.

Dung dịch axit nào sau đây không thể chứa trong bình thủy tinh?
A.HCl.    
B.HF.      
C.HNO3.
D.H2SO4.

Chọn câu đúng trong các câu sau:
A.Clorua vôi là muối tạo bởi một kim loại liên kết với một loại gốc axit.
B.Clorua vôi là muối tạo bởi hai kim loại liên kết với một loại gốc axit.
C.Clorua vôi là muối tạo bởi một kim loại liên kết với hai loại gốc axit.
D.Clorua vôi không phải là muối.

Đặc điểm nào dưới đây là đặc điểm chung của các đơn chất halogen (F2, Cl2, Br2, I2):
A.Ở điều kiện thường là chất khí       
B.Có tính oxi hóa mạnh
C.Vừa có tính oxi hóa, vừa có tính khử    
D.Tác dụng mạnh với nước

Khí nào sau đây không cháy trong oxi không khí:
A.CO     
B.CH4     
C.H2 
D.CO2

Lưu huỳnh tác dụng với axit sunfuric đặc, nóng: S + H2SO4 → 3SO2 + 2H2O.
Trong phản ứng này, tỉ lệ số nguyên tử lưu huỳnh bị khử và số nguyên tử lưu huỳnh bị oxi hóa là
A.1: 2  
B. 2: 1     
C.1: 3                          
D. 3: 1

Dãy đơn chất nào sau đây vừa có tính oxi hóa, vừa có tính khử?
A.S, Br2, Cl2       
B.Cl2, O3, S    
C.Na, F2, S    
D.Br2, O2, Ca

Kim loại nào sau đây tác dụng với dung dịch HCl loãng và tác dụng với khí Cl2 cho cùng loại muối clorua kim loại?
A.Fe.       
B.Cu       
C.Zn           
D.Ag

Chiếu một chùm bức xạ có bước sóng λ vào bề mặt một tấm nhôm có giới hạn quang điện 0,36µm. Hiện tượng quang điện không xảy ra khi λ bằng
A.0,42 µm.                
B.0,24 µm.                 
C.0,30 µm.                 
D.0,28 µm.