Lưu huỳnh tác dụng với axit sunfuric đặc, nóng: S + H2SO4 → 3SO2 + 2H2O.
Trong phản ứng này, tỉ lệ số nguyên tử lưu huỳnh bị khử và số nguyên tử lưu huỳnh bị oxi hóa là
A.1: 2  
B. 2: 1     
C.1: 3                          
D. 3: 1

Dãy đơn chất nào sau đây vừa có tính oxi hóa, vừa có tính khử?
A.S, Br2, Cl2       
B.Cl2, O3, S    
C.Na, F2, S    
D.Br2, O2, Ca

Kim loại nào sau đây tác dụng với dung dịch HCl loãng và tác dụng với khí Cl2 cho cùng loại muối clorua kim loại?
A.Fe.       
B.Cu       
C.Zn           
D.Ag

Chiếu một chùm bức xạ có bước sóng λ vào bề mặt một tấm nhôm có giới hạn quang điện 0,36µm. Hiện tượng quang điện không xảy ra khi λ bằng
A.0,42 µm.                
B.0,24 µm.                 
C.0,30 µm.                 
D.0,28 µm.

Tia tử ngoại không có tính chất nào sau đây?
A.Kích thích sự phát quang nhiều chất.                    
B.Bị thạch anh hấp thụ mạnh.
C.Kích thích nhiều phản ứng hóa học.                      
D.Bị nước và thủy tinh hấp thụ mạnh.

Khí oxi điều chế được có lẫn hơi nước. Dẫn khí oxi ẩm đi qua chất nào sau đây để được khí oxi khô?
A.Al2O3
B.Dung dịch HCl
C.Dung dịch Ca(OH)2
D.CaO

Cho phản ứng hóa học: SO2 + Br2 + H2O → HBr + H2SO4. Hệ số của chất oxi hóa và hệ số của chất khử trong PTHH của phản ứng trên là:
A. 1 và 1. 
B.2 và 1.      
C.1 và 2.    
D.2 và 2.

Chất nào sau đây vừa có tính oxi hóa vừa có tính khử?
A.H2S.       
B.O3.   
C.SO2.               
D.H2SO4.

Trong các tia sau, tia có chu kì nhỏ nhất là
.
A.tia X.                      
B.tia hồng ngoại,                    
C.tia tử ngoại.            
D.tia gamma

Trong công nghiệp, để làm mau khô lớp sơn ngoài người ta sử dụng
A.tia tử ngoại.                        
B.tia gamma               
C.tia hồng ngoài.        
D.tia X.